题目内容：

光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下(部分试剂、反应条件和产物已略去)：

已知：I、

II、

（1）A分子的名称为______，B分子中所含官能团的名称为_______，由C到D的反应类型为_______；

（2）乙炔和羧酸X发生加成反应生成E，E的核磁共振氢谱有三组峰，且峰面积比为3：2：1，E能发生水解反应，则E的结构简式为_______；

（3）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为______；

（4）C的同分异构体满足下列条件：

①能发生银镜反应，其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应；

②分子中只有一个环状结构。满足上述条件的同分异构体有______种。其中苯环上的一氯取代产物只有两种的同分异构体的结构简式为：_______

（5）根据已有知识并结合本题信息，写出以 CH3CHO为原料制备CH3COCOCOOH的合成路线流程图(无机试剂任用，合成路线流程图示例见本题题干)______。