题目内容：

高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料，又称“半导体”材料，它的发现和使用曾引起计算机的一场“革命”。这种材料可以按下列方法制备：

SiO2Si(粗) SiHCl3Si(纯)

（1）写出步骤①的化学方程式：___。

（2）步骤②经过冷凝得到的SiHCl3(沸点为33.0℃)中含有少量的SiCl4(沸点为57.6℃)和HCl(沸点为-84.7℃)，提纯SiHCl3的主要化学操作的名称是___；SiHCl3和SiCl4一样遇水可发生剧烈水解，已知SiHCl3水解会生成两种气态产物，请写出其水解的化学方程式：___。

（3）请写出二氧化硅与氢氟酸反应的化学方程式：___。