题目内容：

超纯氢氟酸主要用作芯片材料清洗和蚀刻。回答下列问题：

(1)氢氟酸可保存在聚四氟乙烯容器中，聚四氟乙烯的结构简式为_____________________。

(2)工业氢氟酸生产超纯氢氟酸时，需经除杂质(AsF3)、气化、洗涤等步骤。

①除去AsF3的反应为4AsF3＋4KMnO4＝4MnO4＋2As2O5＋4KF＋3O2↑，该反应的氧化产物为___________。

②CoF3可与H2O反应生成HF，该反应的化学方程式为___________________________(CoF3还原为CoF2)

③在无水氟化氢汽化时，可向发生装置中掺入含有F2，NF3和OF2中的一种或多种的含氟气体，以氧化杂质。NF3的电子式为_________；OF2中氧元素的化合价为___________，OF2可由F2与稀NaOH溶液反应制取，该反应的离子方程式为____________________________。