题目内容：

聚乙烯醇肉桂酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：

已知：

请回答：

(1)化合物A的质谱图如下图所示，则A的化学名称为________。

(2)高分子化合物D的单体是_______；M中含氧官能团的名称为____________。

(3)F→G的化学反应类型为__________；检验产物G中新生成官能团的实验方法为___________________。

(4)C→D的化学方程式为___________________________。

(5)E的结构简式为________；H的顺式结构简式为___________。

(6)同时满足下列条件的F的同分异构体有________种(不考虑立体异构)；

①属于芳香族化合物②能发生水解反应和银镜反应。其中核磁共振氢谱有4种吸收峰的物质的结构简式为_________(任写一种)。