题目内容：

习主席在2020年新年贺词中强调“5G商用加速推出，凝结着新时代奋斗者的心血和汗水，彰显了不同凡响的中国风采、中国力量”，制造芯片用到高纯硅，用SiHCl3与过量H2在1100～1200℃反应制备高纯硅的装置如下图所示（热源及夹持装置略去）。

已知： SiHCl3 遇水H2O 强烈水解，在空气中易自燃。下列说法错误的是（   ）

A.装置 B 中的试剂是浓硫酸

B.实验时先打开装置C中分液漏斗的旋塞

C.装置C中的烧瓶需要加热，其目的是使滴入烧瓶中的SiHCl3气化

D.装置D不能采用普通玻璃管的原因是在反应温度下，普通玻璃管会软化