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2017年5月26日,Alpha Go人机配对赛开战,Alpha Go的芯片主要以高纯度的单质硅(Si)为原料制成。在半导体硅元件生产中,常用氢氟酸(HF)来清除硅表面的氧化膜,反应原理可表示为SiO...
题目内容:
2017年5月26日,Alpha Go人机配对赛开战,Alpha Go的芯片主要以高纯度的单质硅(Si)为原料制成。在半导体硅元件生产中,常用氢氟酸(HF)来清除硅表面的氧化膜,反应原理可表示为SiO2+6HF=H2SiF6+2X。已知硅元素显+4价。下列说法错误的是( )
A.生成物X的化学式是H2O B.该反应是复分解反应
C.H2SiF6中氟元素显-1价 D.地壳中硅元素含量仅次于氧元素
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